直流电弧等离子体技术制备纳米粉体原理
直流电弧等离子体法的基本原理是在惰性气氛或反应性气氛中,通过直流放电(或其他方式)使气体电离产生高温等离子体,从而使金属熔融蒸发,得到金属蒸汽,金属蒸汽与周围惰性气体原子或反应性气体发生激烈碰撞而进行骤冷或发生化学反应形成超细微粒。
自从直流电弧等离子体技术开发出来,不断得到改进和完善,应用领域也不断的扩展,主要包括以下几个方面:
(1)纳米金属粉
直流电弧等离子体法可以制备多种纳米金属粉及合金粉。
(2)纳米金刚石薄膜
采用CH4、H2、Ar气作为等离子体气源,还可以制备金刚石薄膜。
(3)金属氧化物和陶瓷粉
通过采用不同的等离子体气源,还可以制备氧化物、氮化物等陶瓷粉。
等离子蒸发法目前已工业化用于单质金属、合金纳米粉末、氮化物、氧化物、碳化物粉末等。 |
工作气体 |
原料 |
生成的纳米材料 |
粒径 |
特征 |
Ar |
Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, Pd, Si, W |
Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, Pd, Si, W |
30-300 |
纯金属纳米球形粒子 |
Sc, Ta, Ti, V |
Sc, Ta, Ti, V |
50-300 |
氢化物纳米粒子 |
O2 |
W,Mo,Nb |
WO3,MoO3,Nb2O5 or NbO2 |
50-300 |
金属氧化物纳米球形粒子 |
H2 |
CaO,MgO,Al2O3,TiO2,ZrO2,SiC,Ti+C,W+C,WO3+C,WC |
CaO,MgO,Al2O3,TiO2,ZrO2,SiC,Ti+C,W+C,WO3+C,WC |
50-300 |
特定晶相结构纳米球形粒子 |
N2 |
Ti, TiN,Zr,Al, AlN,Si, Si3N4 |
TiN,ZrN,Al+AlN,Si, |
50-300 |
金属氮化物纳米球形粒子 |
MAO-PNP等离子纳米粉体生产线
1.设备用途:
采用真空直流等离子蒸发的工艺,连续高效制备高纯度纳米金属及复合粉体,高质量、高产率、高均匀度。具有纯度高(99.7% 以上),球形度高,粒度分布范围窄,结晶度高,利于分散等特点。
2.设备组成:
主要由高真空获得及充工作气体系统,直流电弧等离子体制粉系统,粉体进料系统,粉体收集气体循环系统,粉体沉降布袋收集系统,粉体钝化系统、真空手套箱系统,电气控制系统,水冷循环系统等组成。
3.技术指标
3.1 单炉熔炼蒸发量:2kg
3.2 等离子体蒸发温度:2000-3500℃(可设计定制)
3.3 等离子电源主要技术参数:输入380V 3相50HZ,总功率30KW、70KW、100KW,工作电压:50-300V
3.5 日产量:5-50Kg
4.设备明细
4.1.等离子体蒸发制粉系统
4.2.真空获得及测量系统
4.3.气体充气循环系统
4.4. 水冷系统:粒径控制器、气体冷却器、蒸发炉冷却系统、换热器、冷水机
4.5. 粉体旋风分级/捕集系统;
4.6.方型真空手套操作箱(二工位);储料罐;
4.7.电气控制系统;
4.8. 钝化存储系统:选配
一些金属纳米粉具有比表面积大、活性高,对环境敏感,非常容易发生氧化等化学反应,不利于包装、储运和应用。纳米粉钝化装置,可实现纳米粒子的惰性离子包覆,为高活性纳米粉体的包装、储藏和应用提供了便利。
核心设备均为自制生产,并在2003年开始逐渐申请了知识产权保护。
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